HAMAMATSU 滨松光子

日本进口HAMAMATSU滨松 C11011-02 薄膜厚度测量系统

日本进口HAMAMATSU滨松 C11011-02 薄膜厚度测量系统日本进口HAMAMATSU滨松 C11011-02 薄膜厚度测量系统C11011-02 膜厚测量系统采用红外 LD 1300nm 光源,光斑尺寸约 Φ60μm,工作距离可达 155mm,可对带图案、保护膜的晶圆开展检测,支持非透明白色样品红外检测。设备单点测量耗时 16.7ms,具备 60Hz 高速测量能力,适配工厂产线在线测量场

日本进口HAMAMATSU滨松 C11011-02 薄膜厚度测量系统


日本进口HAMAMATSU滨松 C11011-02 薄膜厚度测量系统



C11011-02 膜厚测量系统采用红外 LD 1300nm 光源,光斑尺寸约 Φ60μm,工作距离可达 155mm,可对带图案、保护膜的晶圆开展检测,支持非透明白色样品红外检测。设备单点测量耗时 16.7ms,具备 60Hz 高速测量能力,适配工厂产线在线测量场景。


在检测精度方面,硅基底测量重复性 100nm,玻璃基底重复性 250nm;硅基底厚度≤500μm 时精度 ±0.5μm,大于 500μm 时精度 ±0.1%。该型号最多支持单层薄膜测量,采用峰值检测分析方式。通讯接口配备 RS-232C、PIPE 与 USB2.0,方便接入上位机实现外部控制,电源规格 AC100V~240V,功耗约 50VA。


系统可选配映射模块,实现样品厚度分布测绘。设备本体重量约 8.5kg,结构紧凑,便于集成到自动化产线或检测平台。该型号适合半导体、光学薄膜行业,用于单层膜样品制程监控与品质管控,可在生产过程中持续采集膜厚数据,及时捕捉制程波动,为工艺调整提供数据支撑。


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