池田ULVAC爱发科 晶体振荡式沉积控制器[晶体板]UCR-4MAG-12

池田ULVAC爱发科 晶体沉积控制器CRTM-R1 用于多种气相沉积工艺

池田ULVAC爱发科 晶体沉积控制器CTM(-D) 用于多种气相沉积工艺

池田ULVAC爱发科 晶体沉积控制器CRTM-R1-EL 可同时控制 8 个元件

池田ULVAC爱发科 晶体沉积控制器CTM-EL(-D) 可同时控制 8 个元件

池田ULVAC爱发科 CRTM-6000G晶体振荡式沉积控制器 标准配备RS232C

池田ULVAC爱发科 晶体振荡式沉积控制器[晶体板]UCR-5MAG-12

池田ULVAC爱发科 晶体振荡式沉积控制器[晶体板] UCR-5MAU-12

池田ULVAC爱发科 晶体振荡式沉积控制器[晶体板]UCR-4MAG-12

CRTM-R1是基于ULVAC多年积累的技术开发的晶体薄膜沉积控制器。通过采用新的测量方法，

我们实现了速率稳定性和比以前的型号更高的分辨率。它可用于多种气相沉积工艺，从金属薄膜到光学薄膜。

特征

采用新的测量方法，速率稳定性显着提高。

能力（CI值）测量提高了晶体板的异常检测能力。

出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018Å @5MHz）使其成为低速率沉积控制的理想选择。

最多可同时控制 8 个元件。 （添加选项时）

通讯方式兼容以太网和RS-232C。

主机上保存的各种日志数据可以以 CSV 格式传输到 USB。

目的

金属薄膜和光学薄膜气相沉积过程中的膜厚和速率控制

规格