日本ULVAC爱发科 CVD/ALD/蚀刻工艺气体监测仪RGM2-201F

日本ULVAC爱发科 CVD/ALD/蚀刻工艺气体监测仪RGM2-201F

反应性工艺气体监测仪 Qulee RGM2-201F 是一款具有差动排气系统的工艺监测仪，

可兼容 Qulee 系列蚀刻、CVD 和 ALD 设备等反应性工艺。 

ULVAC 独特的离子源和排气系统结构对活性气体具有出色的耐腐蚀性，可实现长期稳定的测量。

特征

排气系统和控制系统集成在一起，可以垂直安装，世界上最小的占地面积使得即使在空间有限的生产线上也能监测反应气体。

维护时更换耗材套件的速度大幅提升，原本需要两名工人完成的120分钟的工作只需10分钟，一个人就能完成。

即使第一根灯丝断裂，双灯丝也可以在不停止生产线的情况下进行气体分析。

配备触摸屏，可以实时查看情况。

从启动到测量的所有操作均可使用计算机完成。

通过采用我们独特的带磁铁的封闭式离子源，即使在反应过程中也可以长时间进行稳定的测量。

电离室具有低气体离解和高灵敏度，使得仅使用法拉第杯即可进行高灵敏度气体分析。

一种紧凑的流路控制阀，可防止因热反应而分解和吸附。

缩短了处理室到离子源的距离，从而实现快速响应分解。

增强的预防性维护功能配备

离子源和二次电子倍增管预防性维护的可追溯功能

（专利号5016031）

标准软件与Windows 8/10/11兼容。

目的

在CVD/ALD/蚀刻设备中

过程中反应气体的监测

蚀刻清洗过程的端点监控

残余气体测量