日本ULVAC爱发科 涡轮分子泵UTM800A-MS 用于气相沉积设备
日本ULVAC爱发科 UTM300A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用日本ULVAC爱发科 UTM400A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用日本ULVAC爱发科 涡轮分子泵UTM800A-MS 用于气相沉积设备这是带有使用磁力轴承的独立控制器的涡轮分子泵。我们拥有一系列抽速为 300 至 4000L/s 的型号。控制器部分可以监控运行状态并兼容各种通信标准。特征泵体和控制器是分开的,控制器可以监控
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日本ULVAC爱发科 UTM300A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用
日本ULVAC爱发科 UTM400A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用
日本ULVAC爱发科 涡轮分子泵UTM800A-MS 用于气相沉积设备
这是带有使用磁力轴承的独立控制器的涡轮分子泵。
我们拥有一系列抽速为 300 至 4000L/s 的型号。
控制器部分可以监控运行状态并兼容各种通信标准。
特征
泵体和控制器是分开的,
控制器可以监控运行状态,并兼容各种通信标准。
自由安装方向
由于安装方向没有限制,因此设备设计的自由度增加。
产品阵容包括抽速 300L/s 至 4000L/s
泵转速可在25%至100%范围内变化,腔室压力可调节。
高耐用性和安全性
通过了各种安全确认测试,包括大气进入测试和着陆测试。
目的
各种设备的真空主排气系统
- 半导体制造设备
- 气相沉积设备
- 喷射设备
- 分析设备、实验设备等
- 研发设备
不产生副反应产物的轻工艺主排气系统
其他一般高真空排气应用