日本ULVAC爱发科 UTM400A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用

日本ULVAC爱发科 UTM300A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用

日本ULVAC爱发科 UTM400A-MS涡轮分子泵 半导体制造设备用

这是带有使用磁力轴承的独立控制器的涡轮分子泵。

我们拥有一系列抽速为 300 至 4000L/s 的型号。

控制器部分可以监控运行状态并兼容各种通信标准。

特征

泵体和控制器是分开的，

控制器可以监控运行状态，并兼容各种通信标准。

自由安装方向

由于安装方向没有限制，因此设备设计的自由度增加。

产品阵容包括抽速 300L/s 至 4000L/s

泵转速可在25%至100%范围内变化，腔室压力可调节。

高耐用性和安全性

通过了各种安全确认测试，包括大气进入测试和着陆测试。

目的

各种设备的真空主排气系统

- 半导体制造设备

- 气相沉积设备

- 溅射设备

- 分析设备、实验设备等

- 研发设备

不产生副反应产物的轻工艺主排气系统

其他一般高真空排气应用