日本ORC欧阿希半导体光刻机设备PPS-8500
日本ORC欧阿希半导体光刻机设备PPS-8500模型PPS-8500面板尺寸510 x 515 毫米（最大）解决2.0 µmL/S（2.0 µm 抗蚀剂厚度）NA（数值孔径）0.16, 0.1 变量减速比1:1字段大小52 毫米 x 33 毫米曝光波长ghi-Line gh-line i-line（链接到食谱）十字线尺寸6寸叠加精度≤1.0 µm (|Ave|+3σ)设备尺寸/重量(W) 3,00
日本ORC欧阿希半导体光刻机设备PPS-8500
| 模型 | PPS-8500 |
|---|---|
| 面板尺寸 | 510 x 515 毫米（最大） |
| 解决 | 2.0 µmL/S（2.0 µm 抗蚀剂厚度） |
| NA（数值孔径） | 0.16, 0.1 变量 |
| 减速比 | 1:1 |
| 字段大小 | 52 毫米 x 33 毫米 |
| 曝光波长 | ghi-Line gh-line i-line（链接到食谱） |
| 十字线尺寸 | 6寸 |
| 叠加精度 | ≤1.0 µm (|Ave|+3σ) |
| 设备尺寸/重量 | (W) 3,000 x (D) 4,800 x (H) 2,500 毫米 / 11,000 公斤 |