日本VAT原装61.3系列 高压蝶阀控制阀61328-KAAN
日本VAT原装61.3系列 高压蝶阀控制阀61328-KAAN61.3 HV 蝶式控制阀面向薄膜沉积工艺,多工况稳定压力调控真空阀、适配 CVD、ALD 等高颗粒下游工况、面向半导体精密真空制程开发,可在多样化工艺工况下维持稳定的压力调控能力。搭载 0.1 秒高速动作控制器,调节响应迅速、定位精度高,能够满足 CVD、ALD 薄膜沉积工艺对压力精细调控的严苛要求,是薄膜制备环节压力管控的优选组件。
日本VAT原装61.3系列 高压蝶阀控制阀61328-KAAN61.3 HV 蝶式控制阀面向薄膜沉积工艺,多工况稳定压力调控真空阀、适配 CVD、ALD 等高颗粒下游工况、面向半导体精密真空制程开发,可在多样化工艺工况下维持稳定的压力调控能力。搭载 0.1 秒高速动作控制器,调节响应迅速、定位精度高,能够满足 CVD、ALD 薄膜沉积工艺对压力精细调控的严苛要求,是薄膜制备环节压力管控的优选组件。
日本VAT原装61.3系列 高压蝶阀控制阀61328-KAAN
61.3 HV 蝶式控制阀面向薄膜沉积工艺,多工况稳定压力调控真空阀、适配 CVD、ALD 等高颗粒下游工况、面向半导体精密真空制程开发,可在多样化工艺工况下维持稳定的压力调控能力。搭载 0.1 秒高速动作控制器,调节响应迅速、定位精度高,能够满足 CVD、ALD 薄膜沉积工艺对压力精细调控的严苛要求,是薄膜制备环节压力管控的优选组件。阀板作为核心节流组件,动态调整开度以改变流导;集成压力控制单元实时演算阀板位置,驱动系统快速逼近目标设定压力,缩短压力稳定时间,保障薄膜制程的一致性。
产品针对高颗粒负载的下游气流工况专项优化,尤其适配工艺反应后带有颗粒、碎屑易沉积的真空管路环境,即便在颗粒浓度高、沉积物持续累积的工况下,阀门仍可维持全功能不间断运行。61.3 系列已在大量高规格真空产线落地应用,适配多种差异化工艺条件,保持持续稳定的运行表现。阀体采用稳固结构设计,支持直装部署,减少现场安装工作量;维护流程简洁,降低产线停机维护耗时,适配产线长期连续作业。
阀体基材、表面处理、弹性密封件、法兰接口、非标尺寸以及定制控制算法(自适应、固定 PI 下游 / 软泵)提供丰富选型,可灵活适配各类真空系统集成需求。阀体提供铝合金、不锈钢两种基材选择,标配 ISO-KF、ISO-F 法兰接口,可以集成客户专用的法兰,可搭载带保温层的集成加热器等拓展组件;密封弹性体默认配置 FKM,也可依据工况需求选用 FFKM 材质,适配不同工艺气体与温度环境。
核心特性
压力调控稳定、高速动作响应、机载本地控制程序、复杂工艺工况稳定运行。
应用价值
支撑制程精细化调控、保障设备持续稼动、优化整体运维开销。